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光刻中的晶圓步進機 晶圓步進機是把掩模圖案投射到涂有光刻膠的硅晶圓上的關鍵設備。它決定了圖形能到底有多小、層與層之間能否精確對齊。除了光學與運動控制外，環境與材料的穩定性對最終圖形同樣關鍵 環境控制：濕度、溫度、氣壓都很重要 濕度：某
Tag : 光刻晶圓步進機,半導體光刻設備,高精密陶瓷支撐件,微晶玻璃基板,光刻良率優化,晶圓臺溫控/濕控/氣壓控制
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