氮化硅長期以來一直用于高溫應用。 特別是，它被確定為少數(shù)能夠承受氫/氧火箭發(fā)動機產(chǎn)生的嚴重熱沖擊和熱梯度的整體陶瓷材料之一。 氮化硅在制造集成電路中經(jīng)常用作絕緣體和化學屏障氮化硅的一些關鍵特性包括：低密度、優(yōu)異的抗熱震性、良好的抗氧化性、抗機械疲勞性和高